İçeriğe atla

Titanyum nitrür

TiN kaplı matkap ucu ve çakı.
Katodik Ark yöntemi ile TiN kaplanmış zımbalar

Titanyum nitrür (TiN; bazen Tinit olarak da bilinir), substratın yüzey özelliklerini iyileştirmek için genellikle titanyum alaşımları, çelik, karbür ve alüminyum bileşenler üzerinde fiziksel buhar biriktirme (PVD) kaplaması olarak kullanılan son derece sert bir seramik malzemedir.[1]

İnce bir kaplama olarak uygulanan TiN kullanılır kesme ve kayma yüzeylerini, dekoratif amaçlar için (altın görünümü için) ve tıbbi implantlar için toksik olmayan bir dış cephe olarak sertleştirmek ve korumak. Çoğu uygulamada 5 mikrometreden (0,00020 inç) daha az bir kaplama uygulanır.

Kullanım ve üretim

Titayum nitrür kaplamalar, yüksek sertlikleri, düşük aşınma oranları ve görünüşlerinden dolayı yıllardır, aşınma önleme ve dekoratif amaç ile yaygın olarak kullanılmaktadır.[2] TiN yapılarında elde ediliş yöntemleri çok önemlidir. Yapıyı etkileyen kompozisyondur ve TiN geniş bir azot kompozisyonu aralığında kimyasal olarak kararlıdır. Tek fazlı δ-TiN > %35, α-TiN < %15, Ƹ Ti2N filmlerinin azot kompozisyonu %33'tür. Diğer fazlar ise (Hegzagonal Ti(N), tetragonal Ti2N ve kübik TiN) çoklu faz yapısına sahip filmlerde oluşur. Ti2N içeren TiN filmlerinin, aşınmaya çok dayanıklı oldukları tespit edilmiştir. Ancak saf Ti2N yapısı elde etmek, proses parametreleri dikkate alındığında neredeyse imkânsızdır.

TiN kaplamalarının bazı dezavantajlarıda vardır. TiN kaplamaları öncelikle sınırlı bir oksidasyon direncine sahiptirler. TiN kaplamaların 550 °C civarında okside oldukları belirlenmiştir. Yeterince adhezyon sağlanabilmesi için, biriktirme sırasında altlık sıcaklığının yüksek tutulmasıda bir dezavantaj olabilir. Diğer bir olumsuz etken ise, takım uygulamalarında sürekli olarak daha iyi ve daha performanslı kaplamaların tercih edilmesidir.

PVD kaplamalarda tane yapısı kolonsaldır. Kaplama yüzeyine dik olarak, tane boyutu uzunluğunda, kaplama kalınlığı oluşur. Kaplama kalınlığı (tane boyutu) genellikle 0.1 µm civarındadır ve eşeksenli olarak görülür. CVD yöntemiyle yapılan TiN kaplamalarda ise mikroyapı, yüzeye paralel ve dik, boyutu 0.6 µm olan tanelerden oluşur. Bu tanelerde neredeyse hiç gerilme yoktur.

Diğer bir yöntem olan PMD (plazma destekli magnetron saçtırma biriktirmesi) ile elde edilen taneler ise kaplama yüzeyine dik oluşmuşlardır. Taneler yaklaşık 0.06 µm boyutundadır ve eşeksenlidir. Ancak bu yöntemde tane boyutu, kaplama kalınlığına göre oldukça küçüktür. Eğer taneler yüzeye paralel ise, Ark-PVD yöntemi ile yüksek iyonizasyon oranı ve yüksek iyon kinetik enerjisi sayesinde yüksek bağlanma yoğunluğuna ve iyi adhezyona sahip kaplamalar oluşturulur.

Katodik-Ark Biriktirme’nin dezavantajlarından biri olan, makropartikül oluşumunu engellemek için çeşitli çalışmalar yapılmıştır. Basınç, akım gibi parametrelerin değiştirilmesi ve partikül tutucu filtreler eklenmesi ile problem çözülmeye çalışılmıştır. Makropartiküller, metalik titanyumdan oluşmaktadır.

İyon, elektron, nötr parçacık ve dropletlerın oluşumu, Tin film kaplamalarında önemli etkilere sahiptir. Biriktirme sırasında, dropletlar Ti katot üzerinden kopartılırlar. Katot yüzeyinde sıcaklık, titanyumun ergime sıcaklığından daha yüksektir. Dropletların boyutuna artırdıkça emitte edildikleri açı azalmaya başlar. Titanyum hedefe dik konumda, plaka altlıklarının yerleştirilmesi ile 2 µm’dan büyük dropletlar engellenebilmiştir.

Makropartiküllerin oluşumu sırasında, Ti katot yüzeyinden, droplet emitte edilmeden önce altlık TiN tabakası ile kaplanmıştır. Oluşan yüksek sıcaklık, droplet altlığa taşınması sırasında, iyonize olmuş Ti ve N ile hemen reaksiyona girer bu nedenle üzerinde ince bir titanyum nitrür tabakası oluşur. TiN 2950 C’de ergidiğinden Ti droplet çevresinde titanyum nitrürler sert bir dış katman oluşturacaklardır. Bazı çalışmalara göre, droplet 2 µm’den daha küçük yarıçapa sahip olduğu ve emitte olduğu noktadan 200 mm uzaklıkta olduğu zaman katılaşacaktır. Ancak eğer yarıçapı daha büyük ise droplet sıvı konumda hedef yüzeyine çarpar ve altlık üzerinde yassı biçimde oluşur. Araştırmalar, küçük bir Ti droplet için yüzey geriliminin kinetik enerjiden daha yüksek olduğunu belirlemiştir. Bu küçük dropletların, küresel şekilde olacağı anlamına gelir. Ancak dropletlar altlığa çarptıklarında ve eliptik ya da yassı partiküller oldukları zaman büyük dropletlar için bu küresel yapıyı sürdürecek kadar yeterli yüzey gerilimi enerjisi yoktur.

Makropartiküller TiN kaplamaya çarpıp, yüzeye oturmaları ile birlikte iyon akışını gölgelemesi nedenli olarak makropartiküllerin altında boşluklar oluşacaktır. Kısa bir süre sonra makropartikülün kaplama geometrisi, kaplamadan farklı bir hal alacaktır. Kaplama devam ederken TiN katmanı içindeki makropartikülün altındaki boşlular kapanmadan kalır. Sonuç olarak droplet-kaplama arasında zayıf bir bağlantı oluşur. Ayrıca plazmadan geçerken, Ti dropletların üzerinde altlık tarafından itilmeye yol açabilecek elektriksel yük oluşabilir. Ti ve TiN arasındaki termal genleşme katsayısı farkından dolayı arayüzey ayrılması oluşur. Bu durumun yol açtığı boşluklar(iğne delikleri), kaplamanın korozif özellikleri açısından çok zararlıdır.

TiN (titanyum nitrit), bir aşırı sert seramik malzemedir ve genellikle titanyum, çelik, karpit ve alüminyum komponentler üzerine kaplama yapılarak, substratların özelliklerinin geliştirilmesini sağlar. TiN kaplama endüstride, kesici-delici takım parçalarında, kayma yüzeylerinde, dekoratif amaçlı ve tıpta, toksik olmayan vücut içi protezlerin yapılmasında kullanılır. TiN kaplamalar çok iyi bir kızılötesi ışın yansıtıcıdır ve yansıttığı ışığın spektrumu altına çok yakın olduğu için kaplama yapılan yerler altın renginde görülür. TiN kaplamanın karakteristik yapısı, NaCl molekülündeki gibi kristal kafes yapısıyla, 1:1 sitokiyometrisindedir. TiN 600 °C’de okside olur ve normal atmosfer basıncında 2930 °C’de ergir.

TiN kaplamalar genellikle korozyona karşı direnç ve keskin kenarların yapısının bozulmasını engelleyerek, kesici ve delici takımların ömrünü 3 katına kadar çıkarabilmektedir. TiN kaplamaların görüntüsü ve rengi altına benzer olduğu için dekoratif amaçlı olarak oldukça yaygın bir şekilde kullanılmaktadır. Kuyumculuk sektöründe, otomotiv sektöründe ve inşaat sektöründe uygulamaları bulunmaktadır.

TiN kaplama, tesisat parçalalarında ve kapı pencere parçalarıda, nikel veya krom kaplamaların üzerine, üst kaplama olarak uygulanmaktadır. TiN kaplama sağlık açısından bir tehlike içermediği için, vücut içi protezlerde, tıbbi kesici aletlerde kullanılırlar. Bisiklet ve motosiklet süspansiyonları, radyo kontrollü arabaların, şok emici gibi sürekli olarak kayma olan yüzeylerinde kullanılırlar.

TiN kaplamalar, yarı iletken endüstrisinde yaygın olarak kullanılmaktadır. Bakır temelli çiplerin yapımında, filmler, silikon parçalar ile metal parçacıklar arasında iletken bariyer görevi görürler. Burada film, metalin, silikon içerisine difüzyonunu engeller. Film, bu görevini yerine getirirken aynı zamanda, iki taraf arasında yeterli miktarda iletkenlik sağlamaktadır. En son çip teknolojisi olan 45 nm’de, TiN, kapı dielektirikleri ile birlikte (HfSiO) kullanılarak transistörlerin performansını artırmışlardır.

2008 yılında yapılan araştırmalarda, TiN film kaplaması ile düşük sıcaklıklarda, sonsuz direnç ve sıfır akım sağlayan bir süperyalıtkan malzeme bulunmuştur. %100 direnç faktörü gösteren bu malzeme önümüzdeki yıllarda daha da geliştirilmesi ile(daha yüksek süperyalıtkanlık sıcaklıkları) beraber elektronik alanında devrim niteliğinde yeni keşiflerin yapılmasına olanak sağlayacaktır.

Titanyum karbon nitrit (TiCN) ve titanyum alüminyum nitrit (TiAlN) gibi TiN kaplama varyasyonları, endüstride TiN kaplamaya alternatif olarak uygulanmaktadır. Bu kaplamalar, TiN kaplama ile aynı korozyon direnci ve sertliği verirken, renkleri griden, siyah tonlarına doğru değişebilen bir yelpazede uygulanabilirler. Bunun için, bıçaklar, çakılar, silahlar ve bijüteri ürünlerinde kullanılmaktadırlar. 1981’in başlarında ABD’de ilk defa ticari olarak kullanılmaya başlanan TiN kaplamalar, bugün PVD’nin, yüksek hız çeliklerinin temperlenme noktasını geçmeyen düşük sıcaklıklı bir işlem olduğundan, en uygun kaplama olarak kabul edilmektedir. Bu nedenle kaplamayı izleyen herhangi bir ısıl işleme gerek kalmamaktadır.

TiN kaplanmış yüksek hız çelik takımlarının faydaları şunlardır,

a) Sertleştirilmiş YHÇ (Yüksek Hız Çeliği [HSS])’nin 65-70 Rc sertliğine karşılık, ince film katmanlandıktan sonra ortalama sertliğin 85-90 Rc civarına çıkan yüksek sertlik. Bu daha düşük sürtünme aşınması anlamına gelmektedir.
b) TiN’in, iş parçası ve malzemeyle önemli bir reaksiyona girmemesi ve böylece yapışmaya bağlı aşınmaların azalmasını sağlayan kimyasal kararlılık.

TiN kaplamaların sürtünme katsayısı düşük olduğundan kesme işlemi sırasında ortaya çıkan ısı azdır ve böylece kesici ucun metalurjik olarak daha uzun süre sağlam kalması ve kesici kenarların daha etkin olarak korunması sağlanır. Düşük sürtünme kuvveti kesme kuvvetlerinide düşürür. TiN ayrıca yüksek sıcaklığada dayanıklıdır ve yukarıda sözü edilen özelliklerini kesme işlemi sırasında karşılaşılan yüksek sıcaklıklardan da büyük ölçüde korur.

TiN kaplamalarının genel özellikleri,

Renk : Altın sarısı
Sertlik : 2000 - 2300 HV
Kalınlık : 2 - 5 mikrometre
Kaplama ısısı : 200 - 500 derece
Sürtünme katsayısı : 0,6
Termal oksidasyon derecesi : 500 - 600 derece
Yüzey pürüzlülüğü (Ra µm) : 0,2

Ayrıca bakınız

Kaynakça

  1. ^ "Nanoteknoloji". 10 Mart 2024 tarihinde kaynağından arşivlendi. Erişim tarihi: 10 Mart 2024. 
  2. ^ "Titanium Nitride (TiN) Coating". Surface Solutions. Haziran 2014. 24 Mayıs 2017 tarihinde kaynağından arşivlendi. Erişim tarihi: 10 Mart 2024. 

İlgili Araştırma Makaleleri

<span class="mw-page-title-main">Triboloji</span>

Triboloji, sürtünme, aşınma ve yağlama konularını inceleyen bilim ve teknoloji dalıdır. Triboloji sözcüğü eski Yunan dilindeki τριβο (tribo) "sürtünme" ile λόγος (logos) "prensip veya mantık" kelimelerinden türetilmiştir.

<span class="mw-page-title-main">Seramik</span> ısı etkisiyle hazırlanan inorganik, metalik olmayan katı

Seramik iyonik veya kovalent bağlara sahip metal ve metal olmayan inorganik bileşik içeren katı bir malzemedir. Yaygın kullanım örnekleri çanak-çömlek, porselen ve tuğladır.

<span class="mw-page-title-main">Alaşımlı çelik</span> Alaşımlı celik

Alaşımlı çelik, mekanik özelliklerini geliştirmek için ağırlıkça % 1.0 ila % 50 arasında toplam miktarlarda çeşitli elementlerle alaşımlanan çeliktir.

Alaşım, bir metal elementin en az bir başka element ile birleşmesiyle oluşan homojen karışımıdır. Elde edilen malzeme yine metal karakterli malzeme olur. Alaşımlar karışıma giren metallerin özelliklerinden farklı özellikler gösterirler. En bilinen alaşımlara; tunç (bakır-kalay), pirinç (bakır-çinko), lehim (kalay-kurşun) ve cıva alaşımları olan amalgamlar örnek verilebilir. Alaşımlar, uygulamaların gerektirdiği fiziksel özelliklere sahip malzemeler üretilmesinde yaygın olarak kullanılır.

<span class="mw-page-title-main">Fiziksel buhar biriktirme</span> Fizik terimi

Fiziksel buhar biriktirme.

<span class="mw-page-title-main">Termal buharlaştırma biriktirme</span>

PVD kaplama teknikleri arasında en basit olanıdır. Kaplanacak malzeme, herhangi bir şekilde ısı etkisi ile buharlaştırılır ve buharlaşan atomlar, substrat(kaplanan malzeme) üzerinde giderek yoğuşurlar. İşlem 10-5 – 10-6 ton basınçlı vakum ortamında yapılır. Kaplanan malzemeyi buharlaştırmak için çeşitli teknikler vardır bu teknikler; a) Buharlaştırılacak malzemenin, doğrudan konduğu potaya direnç olarak bağlanması, b) İndüksiyon ocağı ile ısıtma, c) Bir elektron tabancası ile elektron ışını bombardımanı, d) Elektrik arkı oluşturulması, e) Lazer ışını uygulanarak ısıtma ile, buharlaştırma işlemi yapılabilir. Bu tekniklerde, doğrudan direnç, indüksiyon, elektron tabancası ile ışın bombardımanı ve vakum ark en önemlileridir. Buharlaştırıcı potaları refrakter metallerden(Mo,W, Ta), oksitlerden(Al2O3,SiO2,M2O, ThO) veya grafitten yapılır. 1700 C’nin üzerindeki sıcaklıklarda, su soğutmalı bakır potalarda kullanılabilir.

<span class="mw-page-title-main">Saçtırma biriktirme</span>

İnce film kaplamalarda, buhar kaynağı olarak, genellikle saçtırma yöntemi kullanılmaktadır. Diğer yöntemlere göre birçok avantaj sunan bu yöntemde, katı malzeme pozitif iyonlarla bombardıman edilerek, atomlar yüzeyden kopartılır. Kaplanacak olan malzeme, hızlandırılmış iyonlar gibi enerjik parçacıklarla bombardıman edilirse, saçılan atomlar substrat (alttaş) yüzeyinde film tabakası oluştururlar.

<span class="mw-page-title-main">Katodik-ark biriktirme</span>

Katodik-ark biriktirme. Bu yöntemde buharlaştırılacak malzeme (katot) ve vakum çemberinin duvarları arasında düşük voltaj - yüksek akım özelliğine sahip potansiyel uygulanır. Başlangıçta, tetikleme ile kısa devre yapılarak, anot ile katot arasında akım geçişi oluşturulur. Katot yüzeyindeki çok küçük alanlarda sıcaklığı 2500 °C civarında olan ark izi oluşturulur. Bununla beraber, katotun önünde oluşturulan yüksek elektron akışı ile buharlaşan atomların iyonizasyonu sağlanmaktadır. Buharlaştırma işlemi sırasında, kaplama malzemesinin (katot) iyi soğutulmadığı durumlarda, film kalitesini bozan ve droplet adı verilen büyük sıvı kütlelerinin yüzeyden kopması söz konusudur.

Çok düşük basınçlarda gaz içeren vakum çemberinde, iki elektrot arasına dc voltajı uygulanırsa, aralarında küçük voltajda bir akım geçer ve çember üzerinde düzgün bir potansiyel oluşur. Voltaj arttıkça ışıldama deşarjı oluşur. Katot akım yoğunluğu, katot üzerinde sabit kalır ve katot bölgesi, saçılan malzemenin uyarılma spektrumundan dolayı katot malzemesinin karakteristiğini gösteren renkte hafif bir ışıldamaya sahip olur. Bu renk yüzeyin saçılarak temizlenmesiyle ortaya çıkan değişim ile gözlenebilir. Daha yüksek basınçlarda, katot bölgesinin tüm katodu kapattığı görülür. Bu normal bir ışıldama bölgesidir ve iyon kaplama, saçtırmanın yapıldığı bölgedir. 1000 dc voltajda kendi kendine devam eden dc diyot gaz deşarjını elde etmek için 10 µm Argon basıncı gerekir.

<span class="mw-page-title-main">Elektron demetiyle fiziksel buhar biriktirme</span>

Elektron demeti ile fiziksel buhar biriktirme işlemi, anottaki hedef malzemenin, çok yüksek vakum altında, tungsten bir flaman ile elektron bombardımanına tutulması ile gerçekleştirilir. Elektron demeti, hedefteki atomların yüzeyden koparak gaz fazına geçmesini sağlar. Buharlaştırılan bu atomlar, vakum çemberi içindeki her noktaya yapışarak ince bir film oluşmasını sağlarlar.

Krom nitrür, CrN formülüne sahip krom ve azotun kimyasal bir bileşiğidir. Çok serttir ve korozyona karşı son derece dayanıklıdır. Azot atomlarının krom kafesteki oktahedral delikleri işgal ettiği bir interstisyel bileşiktir: bu nedenle, kesinlikle bir krom (III) bileşiği değildir ve nitrür iyonları (N3-) içermez. Krom ikinci bir interstisyel nitrür, dikrom nitrür, Cr2N oluşturur.

<span class="mw-page-title-main">TiAlN</span>

TiAlN filmler özellikle delme uygulamalarındaki kesme performansları sebebiyle tercih edilen kaplamalardır. TiAlN filmlerinin sertlikleri 2100-2300 HV civarındadır ancak delme uygulamalarında kullanılmalarının sebebi Al katkısıyla oksidasyon direncinin artırılmasıdır. TiN kaplamalar 550 C civarında okside olmaya başlarken, TiAlN kaplamalarda bu sıcaklık 800 C’dir. CrN kaplamalarında oksidasyon direnci, TiN kaplamalara göre daha yüksektir. Bunun nedeni koruyucu bir amorf olan Al2O3 filminin oluşmasıdır. Bu kaplamalar ile oluşan yapılar, hedef malzemesinin(katot) kompozisyonuna bağlı olarak değişmektedir.

<span class="mw-page-title-main">Kimyasal buhar biriktirme</span>

Kimyasal buhar biriktirme. Von Guerkie, sürtünme ile kıvılcım üreten kükürt topunu, eğlence amaçlı yapması bu prosesin başlangıcı sayılır. Birbirlerine sürterek kıvılcım çıkarmakta ve hidrojensülfat oluşturulmaktaydı. 1798'de Henry, hidrokarbon gazı içerisinde, kıvılcım yaratarak karbon biriktirme yapmayı başardı.

<span class="mw-page-title-main">Baryum sülfat</span> inorganik bileşik

Baryum sülfat BaSO4 formüllü inorganik bileşik. Bu beyaz kristal katı renksizdir ve suda çözünmez. Barit halinde bulunur.

<span class="mw-page-title-main">Plastik film</span>

Plastik film ince bir sürekli polimerik malzemedir.

<span class="mw-page-title-main">Titanyum diborür</span> Mükemmel ısı iletkenliği, oksidasyon kararlılığı ve mekanik erozyona karşı direnç içeren çok sert bir seramik

Titanyum diborür (TiB2), mükemmel ısı iletkenliği, oksidasyon (yükseltgenme) kararlılığı ve mekanik erozyona karşı direnç içeren çok sert bir seramiktir. TiB2 ayrıca makul bir elektrik iletkenidir.

Sertleştirme, metallerin sertliğini artırmak için kullanılan bir metal işlemi türüdür. Bir metalin sertliği, metalin maruz kaldığı gerinim konumundaki tek eksenli akma stresiyle doğru orantılıdır. Sert bir metalin plastik deformasyona karşı direnci daha az sert bir metale göre daha yüksek olacaktır.

<span class="mw-page-title-main">Elektrokaplama</span>

Elektrokaplama katı bir alt tabaka üzerinde o metalin katyonlarının doğrudan bir elektrik akımı vasıtasıyla indirgenmesi yoluyla metal kaplama yapan işlemlerin genel adıdır. Kaplanacak kısım elektrolitik hücrenin katodu görevi görür; elektrolit, kaplanacak metal tuzunun çözeltisidir; ve anot genellikle ya o metalin külçesi veya bazı etkisiz iletken malzemelerdir. Akım harici bir güç kaynağı tarafından sağlanır.

Bor nitrür, bor ve nitrojenin termal ve kimyasal olarak refrakter bir bileşiğidir. Karbon kafesine benzer şekilde yapılandırılmış bir izoelektronik olan çeşitli kristal formlarda bulunur. Grafite karşılık gelen altıgen form, BN polimorfları arasında en kararlı ve yumuşak olanıdır ve bu nedenle kozmetik ürünlerde yağlayıcı ve katkı maddesi olarak kullanılır. Elmasa benzer kübik kristal yapı c-BN olarak adlandırılır; elmastan daha yumuşak, ancak termal ve kimyasal kararlılığı üstündür. Nadir wurtzite modifikasyonu, lonsdaleite benzer, ancak kübik formdan biraz daha yumuşaktır.