İçeriğe atla

Lewis asit ve bazı

Lewis asiti Lewis bazıyla Lewis eklenme ürününü oluşturmak için etkileşen kimyasal türdür. Lewis bazı, Lewis eklenme ürününü oluşturmak için, Lewis asidine elektron çifti veren türdür. Örneğin, OH ve NH3 Lewis bazlarıdır çünkü bu iyonlar bağ yapmamamış elektron çiftlerini verebilirler. Eklenme ürününde, Lewis asidi ve bazı Lewis bazından gelen elektron çiftini paylaşır.[1] Lewis asit ve bazının isim babası Gilbert N. Lewis'dir.

Eklenme ürünlerinin tasviri

Çoğu durumda, bir kompleksteki Lewis asidi ve bazı arasındaki ilişki, koordine kovalent bağ gösterimi kullanılarak, Lewis bazının Lewis asidine verdiği elektronları gösteren bir ok tarafından belirtilir. Örneğin; Me3B←NH3. Bazı kaynaklar Lewis bazını iki nokta ile birlikte göstererek ifade eder (Bu elektronlar Lewis asitine verilir):

Me3B + :NH3Me3B:NH3

Merkezdeki tek nokta, Lewis eklennme ürününü ifade etmek için kullanılabilir, Me3B•NH3gibi. Başka bir örnek ise BF3•Et2O olabilir. Bahsi geçen nokta aynı zamanda, çeşitli kristallerde hidrat koordinasyonunu belirtmek için kullanılır, MgSO4•7H2O'de hidritlenmiş magnezyum sülfat için olduğu gibi. Genel olarak, donör-alıcı bağı kovalent bağ ve iyonik bağ arasında ideal bir yerde gösterilir.[2]

Örnekler

Amonyum iyonunun oluşumunu gösteren Lewis diyagramları ( diyagram, eklenme ürününü pozitif yüklü göstermelidir.)

Basit Lewis asitleri

Lewis asitlerinin en çok çalışılan örnekleri boron trihalojenürler ve organoboranlardır fakat diğer bileşikler aşağıdaki davranışı gösterirler:

BF3 + F → BF4

Bu eklenme ürününde, 4 flor atomu da eşdeğerdir.

BF3 + OMe2 → BF3OMe2

BF4 ve BF3OMe2 bortriflorürün eklenme ürünleridir.

Çoğu durumda, triiyodür anyonu gibi, eklenme ürünü oktet kuralını ihlal eder:

I2 + I → I3

İyodür çözeltisinin renk çeşitliliği, çözücünün I2 Lewis asiti ile oluşacak eklenme ürününün çeşitliliğini etkiler.

Bazı durumlarda,Lewis asitleri 2 Lewis bazını birden bağlama kapasitesine sahiptir. Bunun ünlü bir örneği ise hekzaflorosilikatın oluşumudur:

SiF4 + 2 F → SiF62−

Kompleks Lewis asitleri

Çoğu metal kompleks Lewis asidi gibi kullanılırlar fakat genellikle bu durum sadece daha zayıf bir Lewis bazını ayırdıktan sonra geçerlidir, sıklıkla bu baz sudur.

[Mg(H2O)6]2+ + 6 NH3 → [Mg(NH3)6]2+ + 6 H2O

H+ Lewis asiti

Proton (H+) [3] en güçlü lewis asitlerinden biridir fakat aynı zamanda en karışık olanlardandır.

Lewis bazları

Tipik Lewis bazları amonyak ve alkik aminler gibi alışılagelmiş aminlerdir. Diğer yaygın Lewis bazları ise piridin ve türevlerini içerir.

En yaygın Lewis bazları anyonlardır.

I2, SbCl5 ve BF3 gibi çeşitli Lewis asitleri için hesaplanmış Lewis bazlarının sağlamlığı aşağıda verilmiştir:[4]

Boron triflorüre bağlanan çeşitli bazların bağlarının sıcaklıkları
Lewis bazı donör atom Kompleksleşme Entalpisi (kJ/mol)
Et3N N 135
quinoklidin N 150
piridin N 128
AsetonitrilN 60
Et2OO 78.8
THF O 90.4
Aseton
O 76.0
EtOAcO 75.5
DMA O 112
DMSO O 105
Tetrahidrotiyofen S 51.6
Trimetilfosfin P 97.3

Ayrıca bakınız

  • Asit
  • Baz
  • Brønsted–Lowry asit-baz kuramı
  • Kiral Lewis asit

Kaynakça

  1. ^ "Arşivlenmiş kopya". 8 Mart 2017 tarihinde kaynağından arşivlendi. Erişim tarihi: 3 Kasım 2016. 
  2. ^ March, J. “Advanced Organic Chemistry” 4th Ed. J. Wiley and Sons, 1992: New York.
  3. ^ Traditionally, but not precisely, H+ ions are referred as "protons".
  4. ^ Christian Laurence and Jean-François Gal "Lewis Basicity and Affinity Scales : Data and Measurement" Wiley, 2009.

Daha fazlası için

İlgili Araştırma Makaleleri

Hidroliz işlemi suyu oluşturan hidrojen ve oksijen elementlerinin birbirinden ayrılması ile sonuçlanan bir işlemdir. Bazı kaynaklarda hidroliz, moleküllerin su ilavesiyle daha fazla sayıda parçacık oluşturması olarak da geçer. Hidroliz, su ile bir kimyasal bağın parçalanmasıdır yani bir kimyasal reaksiyondur. Hidroliz genel olarak suyun nükleofil olduğu ikame(yer değiştirme reaksiyonu), eliminasyon(organik reaksiyon türü) ve solvasyon (çözme) reaksiyonları için kullanılır.

Baz, suda iyonlaştıklarında ortama OH (hidroksit) iyonu ve elektron çifti verebilen maddelerdir. Bazlar da, asitler gibi tehlikeli maddelerdir. Suda iyonlaştıklarında hidroksit (OH) iyonu derişimini arttıran maddelere baz denir. Bilinen en güçlü baz Sezyum hidroksittir (CsOH).

<span class="mw-page-title-main">Kovalent bağ</span> İki atom arasında elektronun paylaşılması

Kovalent bağ, atomlar arasında elektron çiftleri oluşturmak için elektronların paylaşımını içeren kimyasal bağdır. Bu elektron çiftlerine paylaşılan çiftler veya bağ çiftleri denir. Atomlar arasında elektronları paylaştıklarında çekici ve itici kuvvetlerin kararlı dengesine kovalent bağ denir. Birçok molekül için elektronların paylaşılması her atomun kararlı elektronik gruplaşmasına denk gelen tam değerlik kabuğunun eşdeğerine ulaşmasına olanak tanır.

<span class="mw-page-title-main">Kimyasal bağ</span> atomları birbirine bağlanmasını ve bir arada kalmasını sağlayan kuvvet

Kimyasal bağ, atomların veya iyonların molekülleri, kristalleri ve diğer yapıları oluşturmak üzere birleşmesidir. Bağ, iyonik bağlar'da olduğu gibi zıt yüklü iyonlar arasındaki elektrostatik kuvvetten veya kovalent bağ'larda olduğu gibi elektronların paylaşılmasından veya bu etkilerin bazı kombinasyonlarından kaynaklanabilir. Açıklanan kimyasal bağların farklı mukavemetleri vardır: kovalent, iyonik ve metalik bağlar gibi "güçlü bağlar" veya "birincil bağlar" ve dipol-dipol etkileşimleri, London dağılım kuvveti ve hidrojen bağı gibi "zayıf bağlar" veya "ikincil bağlar" vardır.

<span class="mw-page-title-main">Bileşik</span> Kimyasal olarak bağlanmış birden fazla elementten oluşan madde

Kimyasal bileşik, kimyasal bağlarla bir arada tutulan birden fazla kimyasal elementin atomlarını içeren birçok özdeş molekülden oluşan kimyasal maddedir. Dolayısıyla tek bir elementin atomlarından oluşan bir molekül bileşik değildir. Bir bileşik, diğer maddelerle etkileşimi içerebilen kimyasal reaksiyonla farklı bir maddeye dönüştürülebilir. Bu süreçte atomlar arasındaki bağlar kırılabilir ve/veya yeni bağlar oluşabilir.

<span class="mw-page-title-main">Redoks</span> Atomların oksidasyon durumlarının değiştiği kimyasal reaksiyon

Redoks atomların oksidasyon durumlarının değiştiği bir tür kimyasal reaksiyondur. Redoks reaksiyonları, kimyasal türler arasında elektronların fiili veya biçimsel aktarımı ile karakterize edilir, çoğunlukla bir tür oksidasyona, diğer türler indirgemeye uğrar. Elektronun çıkarıldığı kimyasal türlerin indirgenmiş olduğu söyleniyor. Başka bir deyişle:

<span class="mw-page-title-main">Karboksilik asit</span> bir -C(=O)OH grubu içeren organik bileşik

Karboksilik asitler karboksil grubu olan organik asitlerdir, -C(=O)OH formülüne sahiptirler, bu genelde -COOH veya CO2H olarak da yazılır. Karboksilik asitler Bronsted asitleridir, yani proton vericileridir. Karboksilik asitlerin tuz ve anyonlarına karboksilat denir. Karboksilik asitler, esterlerle fonsiyonel grup izomeridirler. Karboksilik asitlerin en basit dizisi alkanoik asitlerdir, R-COOH formülüyle gösterilirler, R bir hidrojen atomu veya bir alkil grubuna karşılık gelir. Bileşiklerde birden fazla karboksilik asit grubu bulunabilir.

<span class="mw-page-title-main">Amid</span>

Kimyada amid sözcüğü iki anlama sahiptir: - Birinci anlamıyla amid, bir azot atomuna (N) bağlı bir karbonil grubu bulunduran bir organik fonksiyonel grup veya bu gruba sahip bir bileşiktir. - İkinci anlamıyla amid, bir azot anyonudur.

<span class="mw-page-title-main">Amin (kimya)</span>

Aminler, amonyaktaki bir veya daha fazla hidrojen atomunun organik radikaller ile değiştirilmesi yöntemiyle türetilmiş organik bileşikler ve fonksiyonel gruplardır. Yapısal olarak aminler amonyağa benzerler, ama bir veya daha fazla hidrojen atomu, alkil veya aril gibi organik sübstitüentlerle yer değiştirmiştir. Bu kuralın önemli bir istisnası RC(O)NR2 tipi bileşiklerdir (C(O) karbonil grubuna karşılık gelir), bunlara amin yerine amid denir. Amidler ve aminlerin yapıları ve özellikleri farklı olduğu için bu ayrım kimyasal olarak önemlidir. Adlandırma açısında biraz akıl karıştırıcı olan bir nokta, bir aminin N-H grubunun N-M (M= metal) ile değişmesi hâlinde buna da amid denmesidir. Örneğin (CH3)2NLi, lityum dimetilamid'dir.

Koordine kovalent bağ, ametal-ligand arasındaki bağın, sadece ligand üzerindeki elektronlar ile oluşması durumunda oluşan kovalent bağ türü. Elektron ortaklaşması göstermemektedir.

Nitrik asit, HNO3 kimyasal formülüne sahip oldukça aşındırıcı bir inorganik asittir. Kezzap olarak da bilinir. Saf hâldeki bileşik renksizdir. Ancak uzun süre bekleyen eski asitler azot oksitleri ve suya ayrışması nedeniyle sarı renge dönebilme özelliğindedirler. Piyasada bulunan nitrik asitlerin çoğu % 68'lik bir konsantrasyona sahiptir. Çözelti, %86'dan fazla HNO3 içerdiğinde, dumanlı nitrik asit olarak adlandırılır. Mevcut azot dioksit miktarına bağlı olarak, dumanlı nitrik asit ayrıca %86’nın üzerindeki konsantrasyonlarda kırmızı dumanlı nitrik asit veya %95’in üzerindeki konsantrasyonlarda beyaz dumanlı nitrik asit olarak tanımlanır.

<span class="mw-page-title-main">Klorik asit</span>

Klorik asit (HClO3), klorun bir oksoasiti ve klorat tuzlarının formal öncülüdür. Güçlü bir asit (pKa ≈1) ve oksitleyici ajandır.

Ligand ya da ligant, merkezî bir metale bağlanan bir atom, iyon veya moleküldür. Bu bağ genelde bir veya birkaç elektron verilmesiyle oluşur, kovalent de olabilir iyonik de. Ayrıca, metal-ligand bağ değeri birden üçe kadar uzanabilir. Ligandlar genelde Lewis bazı(en) olarak sayılırlar ama ender olarak Lewis asidi ligandlar da olabilir.

Kimyasal reaktiflik, bir reaksiyonun meydana gelme eğilimiyle ilişkilidir. Kimyasal tepkimelerin gerçekleşmesini belirleyen faktörler termodinamik düzeyinde incelenir. Termodinamik olarak bir reaksiyon eğer tepkimenin ürünleri reaktanlara kıyasla daha düşük serbest enerji düzeyinde ise gerçekleşir. Diğer taraftan Reaktiflik ise genel olarak bir maddenin kimyasal değişikliklere ya da kimyasal tepkimelere girme eğilimine denir. Elementlerin atomik yapısı ve elektronlarının dizilişi elementlerin ve oluşturdukları moleküllerin reaktifliğinde önemli rol oynar. Soygazların örneğin kimyasal olarak çok az reaktiflik gösterdiği belirtilir. Dolayısıyla kimyasal bileşik oluşturmaları zordur. Bu durum soygazların tam dolu olan en dış elektron kabuğundan dolayıdır.
Kimyasal denge, asit ve baz kimyası, elektron aktarımı tepkimesi ve entropi gibi konular kimyasal reaktifliğin temel kavramlarıdır.

<span class="mw-page-title-main">Hidrojen iyodür</span> kimyasal birleşik

Hidrojen iyodür (HI) iki atomlu bir molekül ve hidrojen halojenürdür. Sulu çözeltisi, güçlü bir asit olan hidroiyodik asit veya hidriyodik asit olarak bilinir. Bununla birlikte, hidrojen iyodür ve hidroiodik asit, birincisinin standart koşullar altında bir gaz olması, diğerinin ise söz konusu gazın sulu bir çözeltisi olması bakımından farklıdır. Birbirine dönüştürülebilir. HI, organik ve inorganik sentezlerde birincil iyot kaynaklarından biri ve bir indirgeyici madde olarak kullanılır.

<span class="mw-page-title-main">Arsenöz asit</span> İnorganik bileşik

Arsenöz asit (veya arsenik oksit), H3AsO3 formülüne sahip bir inorganik bileşiktir. Sulu çözeltilerde meydana geldiği bilinmektedir, ancak bu gerçek As(OH)3'ün öneminden uzaklaşmasa da saf bir malzeme olarak izole edilmemiştir.

<span class="mw-page-title-main">Nitrozilsülfürik asit</span> Kimyasal bileşik

Nitrozilsülfürik asit, NOHSO4 formülüne sahip bir kimyasal bileşiktir. Endüstriyel olarak kaprolaktam üretiminde kullanılan renksiz bir katıdır. Daha önce sülfürik asit üretmek için öncü oda işleminin bir parçasıydı. Bileşik, sülfürik asit ve nitröz asidin karışık anhidritidir.

<span class="mw-page-title-main">Kloroplatinik asit</span> inorganik bileşik

Kloroplatinik asit (hekzakloroplatinik asit olarak da bilinir), [H3O]2[PtCl6](H2O)x (0≤x≤6) formülüne sahip bir inorganik bileşiktir. Kırmızı bir katı, genellikle sulu bir çözelti olarak önemli bir platin kaynağıdır. Genellikle kısaca H2PtCl6 olarak yazılsa da, hekzakloroplatinat anyonunun (PtCl62-) hidronyum (H3O+) tuzudur. Hekzakloroplatinik asit oldukça higroskopiktir.

<span class="mw-page-title-main">İzosiyanik asit</span> kimyasal birleşik

İzosiyanik asit, 1830'da Liebig ve Wöhler tarafından keşfedilen HNCO formülüne sahip bir kimyasal bileşiktir. Kaynama noktası 23.5 °C olan uçucu ve zehirli renksiz bir maddedir. İzosiyanik asit, organik kimya ve biyolojide en yaygın olarak bulunan dört element olan karbon, hidrojen, azot ve oksijen içeren en basit kararlı kimyasal bileşiktir.

Kimyada, elektron verici, elektronları başka bir bileşiğe veren kimyasal oluşumlardır. Verdiği elektronlar sayesinde süreç içinde oksitlenen bir indirgeyici maddedir.